Двухмерное и трехмерное разрешениеХРентгеновская системаФФ70 CL

Двухмерное и трехмерное разрешение для полностью автоматизированного анализа минимальных дефектовХЛинейная система

Из - за дефектов в компонентах микросхем, базовых плат, лент или конечного продукта, в производстве полупроводников требуется автоматизированное, высококачественное, надежное и быстрое неразрушающее обнаружение и анализ для достижения оптимального производства. Новый типFF70 CL XРадиометрическая система предназначена для оптимального автоматизированного анализа минимальных и наиболее жестких дефектов в этих образцах. Результат: Тесты и тесты очень точны и повторяемы, отличная производительность.

л Улучшение контроля качества для проверки большего количества мест с более высоким разрешением для выявления возможных пропущенных неисправностей

л Значительное снижение затрат за счет улучшения охвата тестированием и, следовательно, повышение производительности

л Надежная и повторяющаяся проверка соответствия параметров процесса и дефектов в любое время

л Инновационное автоматизированное аналитическое решение является простым в использовании и оптимизирует эксплуатационные расходы

Системный потенциал

ФФ70 CLИмеет большую площадь обнаружения, т.е.510 х 610 ммА также очень тонкая глубина обнаружения, то есть меньше, чем150 нмИдеально подходит для автоматического, неразрушающего анализа сварных выпуклых точек и заполненных отверстий в трехмерных интегральных схемах, чипах и чипах.

Инновационный вакуумный механизм системной консоли позволяет безопасно и точно удерживать образцы во время анализа и нейтрализовать эффект искажения образцов.

ФФ70 CLПредоставление двухмерных (сверху вниз) высокопроизводительных плоских детекторов и трехмерных (Кл-Компьютерная стратификация) Автоматический анализ с использованием усилителя изображения с высоким разрешением для наклонного вращения в специальных операционных компонентах.

Новое поколение нанофокусовХЛазерные трубки могут генерировать двумерные и трехмерные изображения, которые отображают и измеряют минимальные пробелы и функции, что позволяетФФ70 CLСпособность анализировать самые сложные сложные полупроводниковые проблемы.

Пользовательский интерфейс (Графический интерфейсПростой в использовании и интуитивно понятный, что позволяет пользователям легко создавать автоматизированные, многоточечные и многофункциональные аналитические детекторы.

Тестирование фоновой калибровки во всех аспектах системы автоматического и непрерывного мониторинга обеспечивает повторяемость измерений со временем.

Список системных атрибутов:

л Автоматизированный высокопроизводительный анализ, выполняемый с хорошей повторяемостью и надежными результатами

л Простое создание автоматизированных, многоточечных и многофункциональных аналитических тестов, позволяющих быстро изменять образцы и задачи измерения.

л Выполнение постоянного фонового мониторинга и оптимизации для обеспечения повторяемости и точности измерений

Технические данные